正畸的副作用：牙釉質(zhì)脫礦和牙釉質(zhì)滲透

2019-07-30 來源：中國醫(yī)學(xué)論壇報今日口腔標簽：掌上醫(yī)生喝茶減肥一天瘦一斤安全減肥 cps聯(lián)盟美容護膚

摘要：白斑的發(fā)生率高達59% （Gorelick et al.1982）?？谇恍l(wèi)生差導(dǎo)致的釉質(zhì)改變，是碳水化合物和唾液調(diào)節(jié)下的細菌感染結(jié)果。釉質(zhì)脫礦和再礦化的平衡被打破（Chang et al. 1997）。

正畸固定矯治器可能會產(chǎn)生一些副作用，包括牙釉質(zhì)脫礦、白斑，還有附著喪失、釉質(zhì)磨損、釉質(zhì)折裂和正畸引起的牙根吸收等。釉質(zhì)脫礦是青少年患者的臨床治療問題，而附著喪失則是成人不希望出現(xiàn)的正畸副作用。采取一些針對性的措施，可以減少或避免這些副作用的發(fā)生。

牙釉質(zhì)脫礦

正畸治療很容易引起菌斑堆積。正畸矯治器削弱了牙齒利用舌肌、頰肌和唾液的自潔功能（Zimmer and Rottwinkel 2004）。同時，由于牙刷在口腔內(nèi)的移動空間受到各種固定裝置的限制，人工清潔難度也因此提高。菌斑在牙面堆積，很大程度上增加了致齲菌如鏈球菌和乳酸菌的數(shù)量（Rosenbloom and Tinanoff 1991）。菌斑長時間滯留在牙齒上，從而引起釉質(zhì)脫礦。

白斑的發(fā)生率高達59% （Gorelick et al.1982）?？谇恍l(wèi)生差導(dǎo)致的釉質(zhì)改變，是碳水化合物和唾液調(diào)節(jié)下的細菌感染結(jié)果。釉質(zhì)脫礦和再礦化的平衡被打破（Chang et al. 1997）。脫礦和再礦化的時間取決于口內(nèi)環(huán)境、菌斑在牙釉質(zhì)表面積累和滯留的時間、個人口腔衛(wèi)生狀況和患者的抵抗力（Chang et al. 1997）?；颊咴谡委熤忻摰V和鄰面齲的風(fēng)險高（圖2），嚴重時可以短時間內(nèi)（1個月）發(fā)生（Gorelick et al. 1982）。白斑好發(fā)于上頜側(cè)切牙的唇面齦方，其次好發(fā)于上下頜前磨牙和尖牙。從分區(qū)角度來說，好發(fā)牙位為上頜切牙區(qū)和下頜后牙區(qū)（Gorelick et al. 1982）。

牙釉質(zhì)滲透

牙釉質(zhì)滲透托槽在牙齒表面正確定位，是直絲弓技術(shù)上轉(zhuǎn)矩、軸傾度和內(nèi)外展區(qū)等內(nèi)置數(shù)據(jù)得到表達的前提條件。托槽的精確定位十分困難，因為托槽通常很小，有些材料如陶瓷和纖維加強樹脂等與牙齒顏色又很接近。為了更好地定位托槽，可以使用輔助標記工具（Hablützel 1976；Muchitsch et al. 1989）。

托槽的精確位置，在處理好的釉質(zhì)上用鉛筆標記來確定。這樣做的風(fēng)險是，鉛顆?？赡軙M入釉質(zhì)深層，超過拆除矯治器后拋光能夠去除50 μm深度（Wichelhaus et al. 1996；Ryfet al. 2011）。臨床上，標記顆?？赡芡ㄟ^微孔或釉質(zhì)缺損進入更深的層面，因此，臨床上應(yīng)避免使用鉛筆進行托槽定位標記（Silverstone et al. 1995；Diedrich 1981； Petrin 1981）。

如果口腔衛(wèi)生很好，臨床上可以避免釉質(zhì)脫礦。在正畸治療前，可以用通用指數(shù)對患者進行量化評估，例如鄰面菌斑指數(shù)（Approximal plague index，API）和齦溝出血指數(shù)（Sulcus bleeding index，SBI）（Lange et al.1977）。全面的口腔檢查也能了解患者的齲活躍度。但正畸治療時仍需要注意，固定正畸時尤其是早期口腔衛(wèi)生會明顯變差。即使治療前口腔衛(wèi)生良好的患者，開始正畸后口腔衛(wèi)生情況也會變差。因此正畸治療中必須一直關(guān)注口腔衛(wèi)生。根據(jù)研究，正畸療程的前3 個月具有決定性作用。個別患者，尤其是處于青春期的青少年，口腔衛(wèi)生很差。為了保護牙體硬組織，同時出于生物力學(xué)和生物學(xué)的考慮，建議進行專業(yè)潔治。高風(fēng)險患者可以涂氟或交替使用氯己定（Geiger et al. 1988；Jenatschke et al. 2001；?gaard et al. 2001, 1997）。

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